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紫外臭氧清洗機是運用什么技術(shù)進(jìn)行清洗的?

更新時間:2023-07-27       點擊次數(shù):1340
  紫外臭氧清洗機是一種簡單,經(jīng)濟,快速高效的材料表面清洗設(shè)備,能快速去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。
  紫外臭氧清洗機運用紫外光清洗技術(shù)通過利用有機化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機物質(zhì),經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到“原子清潔度”。也就是UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波,具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時,由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外光具有較強的吸收能力,并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子,這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體:二氧化碳和水蒸氣等逸出表面,從而*底清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。
  紫外臭氧清洗機可以去除樣品表面污染,數(shù)分鐘內(nèi)產(chǎn)生超凈表面。它利用高能紫外光源產(chǎn)生臭氧,臭氧將樣品表面的污染物分解為揮發(fā)性化合物。揮發(fā)性化合物從樣品表面蒸發(fā)的痕跡。這種清潔方法可以產(chǎn)生接近原子級的清潔表面,而不會對樣品表面產(chǎn)生損壞。
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